光刻胶的气味对人体有哪些危害?然后再涂光刻胶，因为OK73的溶剂和光刻胶的溶剂有很大程度是一致的，所以涂布光刻胶的量就可以少了。光刻化学01-光刻胶,[1]光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，但有些稀释剂不一定能作溶剂使用。

1、用化学方法鉴别苯,甲苯,环己烷

甲苯是芳香族碳氢化合物的一员，它的很多性质与苯很相像，在现今实际应用中常常替代有相当毒性的苯作为有机溶剂使用，还是一种常用的化工原料。我整理了化学学习相关内容，希望能帮助到您。用化学方法鉴别苯,甲苯,环己烷1、取三种溶液液体少许于三支试管中，加入少量液溴，褪色的是环己烯。2、用KMnO₄(H⁺)溶液，苯不与其反应，没有明显现象，甲苯会被氧化为苯甲酸，溶液褪色。

苯具有的环系叫苯环，是最简单的芳环。甲苯是芳香族碳氢化合物的一员，它的很多性质与苯很相像，在现今实际应用中常常替代有相当毒性的苯作为有机溶剂使用，还是一种常用的化工原料。扩展资料：环己烷作用与用途：1、该品用作橡胶、涂料、清漆的溶剂，胶粘剂的稀释剂、油脂萃取剂。因本品的毒性小，故常代替苯用于脱油脂、脱润滑脂和脱漆。本品主要用于制造尼龙的单体己二酸、己二胺和己内酰胺，也用作制造环己醇、环己酮的原料。

2、光刻的工序

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。硅片清洗烘干1、硅片清洗烘干（CleaningandPreBaking）方法：湿法清洗 去离子水冲洗 脱水烘焙（热板150～250C,1～2分钟，氮气保护）目的：a、除去表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子）；b、除去水蒸气，使基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（对光刻胶或者是HMDS〉六甲基二硅胺烷）。

HMDS蒸气淀积，200～250C,30秒钟；优点：涂底均匀、避免颗粒污染；b、旋转涂底。缺点：颗粒污染、涂底不均匀、HMDS用量大。目的：使表面具有疏水性，增强基底表面与光刻胶的黏附性。旋转涂胶3、旋转涂胶（SpinonPRCoating）方法：a、静态涂胶（Static）。

3、如何节约光刻胶的用量

首先，光刻胶在工艺中的用量仅有不到三分之一，剩余的都是被甩出去了。节约PR用量，目前在前段工艺都有用RRC工艺，就是先用OK73THINNER去Prewet,然后再涂光刻胶，因为OK73的溶剂和光刻胶的溶剂有很大程度是一致的，所以涂布光刻胶的量就可以少了。

4、简述涂光刻胶的方法

通常采用旋涂式，又分动态和静态的。此外，间距线宽的变化会在一定程度上影响两个微透镜的相对位置，而外形尺寸则是影响曝光时的对准，这些会在一定程度上影响微透镜的分布，但是效果并不明显，相对于负压过程中的拉伸几乎可以忽略不计。曝光精度主要受限于光刻机的设计精度，一是曝光方式，二是套刻精度，这里主要讨论曝光方式的影响。接触式曝光的优点是衬底与掩膜板接触，在真空接触模式下距离可以达到纳米级，大大降低了衍射效应，其图形失真度低，但也由于光刻胶与掩膜的接触，容易污染掩膜板。

此外，在曝光过程中，控制曝光量也是非常关键的。过多的曝光会增加显影后圆柱形模具之间的间距，从而改变各个模具元件中的光刻胶数量；过少的曝光会导致光刻胶曝光不足，特别是当实验中被厚厚的胶水覆盖时，显影后圆柱形模具之间会有残留的光刻胶，导致热熔过程中相邻微透镜之间的粘连。温度是热熔工艺的一个关键因素。

5、光刻化学01-光刻胶,resist

光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。有些地区国家也叫它“光阻”哦光刻胶，resist都是它光刻胶通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)进行曝光。

6、什么是光刻胶

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。[1]光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。

目的硅片制造中，光刻胶的目的主要有两个：光刻胶原理，小孔成像！技术源头，古老的相机！（1）将掩模版图形转移到硅片表面顶层的光刻胶中；（2）在后续工艺中，保护下面的材料（例如刻蚀或离子注入阻挡层）。分类光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。

7、光刻胶溶剂和稀释液的区别

溶剂和稀释剂都是用于溶解和降低涂料粘度的一种液体,在涂料干燥过程中不断地挥发掉。溶剂与稀释剂到底有什么不同呢?(1)溶剂能独立溶解涂料中的成膜物质,而稀释剂仅起稀释作用,只能稀释现成溶液,降低涂料的粘度。(2)溶剂作为油漆的一种成分,已按照一定的比例加入到涂料产品中去了;而稀释剂一般只是在施工过程中,为了改变涂料的粘度,

(3)涂料中含有的溶剂都能做稀释剂用,但有些稀释剂不一定能作溶剂使用。因此,我们不能把“溶剂”和“稀释剂”当作一样的东西而言目地加到涂料中去。(4)由手同一种液体对子不同成膜物质的溶解能力有差别,因此对于某种成膜物质是溶剂的某液体,对于另一种成膜物质则可能只是稀释剂。反之亦然。这就是说,溶剂与稀释剂的区别,在子它们对指定主要成膜物质的溶解能力。

8、光刻胶的气味对人体有哪些危害?

网上有人说：光刻胶的危害主要是溶剂，负胶的溶剂是二甲苯毒性很大，而且非水溶性，难…不过显影去胶用的是碱液，方便无毒。总之，身体使自己，要好好爱惜！个人认为光刻胶一般不会有太多的伤害，因为你用的时候不是都戴着手套和口罩吗？皮肤不能接触，它们又具有很强的挥发性，没有什么可怕的！但是毕竟是有机物嘛，所以需要注意一下。